Kupferpulver, 50–70 µm Fraktion.
Hochreines, ultrafeines Kupferpulver.
Gewonnen durch Verdampfung und Kondensation von Kupferdampf in einer Inertgasumgebung.
Partikelgröße: 50–70 µm.
Chemische Reinheit: 99,999–99,9995 %, Verunreinigungsgehalt:
– gemäß GOST 4960-2017 „Elektrolytisches Kupferpulver. Spezifikationen“;
– gemäß IGAS (Mg, Al, Ti, Fe, Ni, Zn, Mo, Cd, Sn);
– gemäß TU 24.44.21-002-17804435-2024 „Elektrolytisches Kupferpulver besonderer Reinheit. Spezifikationen“, Verunreinigungen: Li, Be, Ti, V, Cr, Co, Rb, Mo, Pd, Cd.
Isotopenzusammensetzung: Cu63–69,09 %; Cu65-30,91 %.
Verpackung: Das Pulver ist unter Argonatmosphäre stabilisiert und wird in PET-Behältern zu 2–2,5 kg und in Behältern zu 25–85 kg geliefert.
HS-Code: 7406100000 „Nicht geschichtete Kupferpulver“

Kupferpulver, 10–15 µm Fraktion.
Hochreines, ultrafeines Kupferpulver.
Gewonnen durch Verdampfung und Kondensation von Kupferdampf in einer Inertgasumgebung oder im Vakuum.
Partikelgröße: 15–30 µm
Chemische Reinheit: 99,9999 %, basierend auf dem Verunreinigungsgehalt
– gemäß GOST 4960-2017 „Elektrolytisches Kupferpulver. Spezifikationen“;
– gemäß ISE (Li, Be, Ti, V, Cr, Co, Rb, Mo, Pd, Cd);
– gemäß TU 24.44.21-002-17804435-2024 „Elektrolytisches Kupferpulver besonderer Reinheit. Spezifikationen“, Verunreinigungen: Li, Be, Ti, V, Cr, Co, Rb, Mo, Pd, Cd.
Isotopenzusammensetzung: Cu63–69,09 %; Cu65–30,91 %.
Verpackung: Das Pulver wird unter Argonatmosphäre stabilisiert und in 2-kg-PET- oder Glasflaschen, 0,25-kg-Glasampullen und 25–85-kg-Behältern geliefert.
HS-Code: 7406100000 „Nicht geschichtete Kupferpulver“

Kupferpulver, 5–10 µm Fraktion.
Hochreines, ultrafeines Kupferpulver.
Gewonnen durch elektrolytische Abscheidung aus Salzlösungen mit Kupferelektroden.Partikelgröße: 8–12 µm
Chemische Reinheit: 99,9995–99,9999 %, Verunreinigungsgehalt:
– gemäß GOST 4960-2017 „Elektrolytisches Kupferpulver. Spezifikationen“;
– gemäß IGAS (Mg, Al, Ti, Fe, Ni, Zn, Mo, Cd, Sn);
– gemäß TU 24.44.21-002-17804435-2024 „Elektrolytisches Kupferpulver besonderer Reinheit. Spezifikationen“, Verunreinigungen: Li, Be, Ti, V, Cr, Co, Rb, Mo, Pd, Cd.
Isotopenzusammensetzung: Cu63–69,09 %; Cu65–30,91 %.
Verpackung: Das Pulver wird unter Argonatmosphäre stabilisiert und in 2-kg-PET- oder Glasflaschen, 0,25-kg-Glasampullen und 25–85-kg-Behältern geliefert.
HS-Code: 7406100000 „Nicht geschichtete Kupferpulver“

Ultrafeines Kupferpulver ist für den Einsatz in der Elektronik-, Elektro-, Instrumenten-, Automobil-, Luftfahrt-, Maschinenbau-, chemischen Industrie sowie im Schiffbau vorgesehen. Das Pulver kann zur Herstellung von elektronischen Schaltungen, Mikrodrähten, Dickschichtpasten, elektrisch leitfähigen und wärmeleitenden Pasten, Elektroden, 3D-Druckern, Kosmetik, Pyrotechnik, Druck (Siebdruck) verwendet werden.
Bei der Verarbeitung von Erdgas - zur Abtrennung von Schwefel aus Begleitgasen, als antibakterielles und antimykotisches Material wird es auch verwendet.
In der Optik - beim Polieren von optischem Glas wird es auch verwendet. Ultrafeines Kupferpulver wird in der Nuklearindustrie als Katalysator in Verbindungen in radioaktiven Verbindungen verwendet (diese Technologie ist für allgemeine Verbraucher geschlossen und gehört zu einer geheimen Technologie).
Pulver aus verschiedenen Metallen werden seit der Antike in der Wirtschaft verwendet. Aus zerkleinertem Kupfer, Silber und Gold wurden dekorative Farben für Keramik und Malerei hergestellt. Heute wird Kupferpulver in verschiedenen Industriezweigen verwendet: Maschinenbau, Luftfahrt, Chemie sowie in der Nanotechnologie. Auch in der Produktion von Anti-Verschleiß-Medikamenten und Autoreifen kann nicht darauf verzichtet werden. Kupferpulver werden am aktivsten in der Pulvermetallurgie verwendet.